Le CE final de pression de PA de la bride 7E-8 de KYKY Ion Vacuum Pump DN150CF a approuvé

Pompe ionique, 3L-100, DN150CF, 110L Air / s, 24L / s Ar, -5KV, 2.7E-8Pa

La pompe à ions Sputter est un équipement de génération de vide permettant d'obtenir un vide propre et ultra-élevé. La pompe à pulvérisation cathodique est la pompe principale du groupe vide sans ultra-vide. La pompe à ions fonctionne dans un système fermé qui ne nécessite pas de pompe de secours en fonctionnement continu.

Principe:

Le matériau de l'anode est un corps en acier inoxydable et le matériau de la plaque de cathode en istitanium. Le processus de décharge de Penning ionise les gaz sous l'action conjointe du champ magnétique et du champ électrique, réalisant ainsi l'évacuation du gaz.

La pompe à ions triode est améliorée pour augmenter le débit de pompage du gaz inerte; les ions de gaz inerte sont soumis à une incidence rasante dans la grille en titane de la cathode, puis neutralisés et réfléchis vers la paroi de pompe et l'anode pour être enterrés avec le film de titane. Comme le gaz inerte enfoui dans la paroi de la pompe ne sera pas libéré en raison du bombardement par des ions positifs, la vitesse de pompage du gaz inerte est augmentée.

Avantages:

Cette série de pompes présente des avantages tels que la propreté, le degré de vide élevé, le bruit zéro, les vibrations zéro et la commodité d'utilisation.

Applications:

1. Accélérateur de particules à haute énergie

2. Appareil à réaction thermonucléaire contrôlée

3. Aspirateur électrique

4. matériau semi-conducteur

5. Microscope électronique

6. spectromètre de masse

Caractéristiques: