Air 85L/S AR de Varian Ion Pump Convenient Operation 420L/S de vide poussé

Pompe ionique, 3L-400C, DN150CF, 420L air / s, 85L / s Ar, -5KV

La pompe à ions Sputter est un équipement de génération de vide permettant d’obtenir un vide propre et ultra-poussé. La pompe à ions fonctionne dans un système fermé qui ne nécessite pas de pompe auxiliaire fonctionnant en continu.

Avantages:

Cette série de pompes présente des avantages tels que la propreté, le degré de vide élevé, le bruit zéro, les vibrations zéro et la commodité d'utilisation.

Applications:

La pompe ionique à pulvérisation cathodique est la pompe principale d’un ensemble d’aspirations scientifiques telles que l’accélérateur de particules à haute énergie, les appareils à réaction thermonucléaire contrôlée, le dispositif électrique à vide, le matériau semi-conducteur, le microscope électronique et la masse. spectromètre et autres équipements industriels nécessitant un vide ultra poussé.

Principe:

Le matériau de l'anode est un corps en acier inoxydable et le matériau de la plaque de cathode en istitanium. Le processus de décharge de Penning ionise les gaz sous l'action conjointe du champ magnétique et du champ électrique, réalisant ainsi l'évacuation du gaz.

La pompe à ions triode est améliorée pour augmenter le débit de pompage du gaz inerte; les ions de gaz inerte sont soumis à une incidence rasante dans la grille en titane de la cathode, puis neutralisés et réfléchis vers la paroi de pompe et l'anode pour être enterrés avec le film de titane. Comme le gaz inerte enfoui dans la paroi de la pompe ne sera pas libéré en raison du bombardement par des ions positifs, la vitesse de pompage du gaz inerte est augmentée.

Caractéristiques: